ਜ਼ਿਨਕ ਟੇਲਰਾਈਡ (ਜ਼ੇਂਟ) ਉਤਪਾਦਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ

, ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਣ II-VI ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਸਮੱਗਰੀ, ਇਨਫਰਾਰੈੱਡ ਖੋਜ, ਸੋਲਰ ਸੈੱਲ ਅਤੇ ਓਪਟੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. ਨੈਨੋਟੈਕਨੋਲੋਜੀ ਅਤੇ ਗ੍ਰੀਨ ਕੈਮਿਸਟਰੀ ਵਿੱਚ ਤਾਜ਼ਾ ਤਰੱਕੀ ਇਸ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਨੂੰ ਅਨੁਕੂਲ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ. ਹੇਠਾਂ ਮੌਜੂਦਾ ਮੁੱਖ ਧਾਰਾ ਦੇ ਜ਼ਨੇ ਉਤਪਾਦਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਅਤੇ ਮੁੱਖ ਮਾਪਦੰਡ ਹਨ ਜੋ ਰਵਾਇਤੀ methods ੰਗਾਂ ਅਤੇ ਆਧੁਨਿਕ ਸੁਧਾਰਾਂ ਸਮੇਤ:
____________________________________________________________
I. ਰਵਾਇਤੀ ਉਤਪਾਦਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ (ਸਿੱਧੇ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ)
1. ਕੱਚਾ ਪਦਾਰਥਾਂ ਦੀ ਤਿਆਰੀ
• ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧ ਜ਼ਿੰਕ (ਜ਼ੈਨ) ਅਤੇ ਟੈਲਯੂਰੀਅਮ (ਟੀ): ਸ਼ੁੱਧਤਾ ≥99.999% (5N ਗ੍ਰੇਡ), ਏ 1: 1 ਮਾਲਰ ਅਨੁਪਾਤ ਵਿਚ ਮਿਲਾਓ.
• ਸੁਰੱਖਿਆ ਗੈਸ: ਆਕਸੀਕਰਨ ਨੂੰ ਰੋਕਣ ਲਈ ਉੱਚ ਪੱਧਰੀ ਅਰਗੋਨ (ਏ ਆਰ) ਜਾਂ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ (ਐਨ.).
2. ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦਾ ਪ੍ਰਵਾਹ
• ਕਦਮ 1: ਵੈੱਕਯੁਮ ਪਿਘਲਣਾ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ
ਓ ਜ਼ੈਨ ਅਤੇ ਟੀ ​​ਪਾ powder ਡਰ ਨੂੰ ਕੁਆਰਟਜ਼ ਟਿ .ਬ ਵਿੱਚ ਮਿਲਾਓ ਅਤੇ ≤10⁻³ pa ਨੂੰ ਬਾਹਰ ਕੱ .ੋ.
ਹੇ ਹੀਟਿੰਗ ਪ੍ਰੋਗਰਾਮ: 5-10 ° C / ਮਿਨ ਤੇ ਗਰਮੀ 5-700 ਡਿਗਰੀ ਸੈਲਸੀਅਸ ਤੇ, 4-6 ਘੰਟਿਆਂ ਲਈ ਰੱਖੋ.
o ਪ੍ਰਤੀਕਰਮ ਸਮੀਕਰਨ: zn + te → Zntezn + Teδznte
• ਕਦਮ 2: ਐਂਡੀਜਿੰਗ
o ਕੱਚੇ ਉਤਪਾਦ ਨੂੰ 2-50000 ° C ਤੇ ਜੱਦੀ ਦੇ ਨੁਕਸ ਘਟਾਉਣ ਲਈ 2-3 ਘੰਟੇ ਲਈ.
• ਕਦਮ 3: ਕੁਚਲਣਾ ਅਤੇ ਬਿਪਤਾ
o ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਕਣ ਦੇ ਆਕਾਰ (ਨੈਨਸਕੇਲ ਲਈ ਉੱਚ-energy ਰਜਾ ਦੀ ਗੇਂਦ ਮਿੱਲਿੰਗ) ਨੂੰ ਥੋਕ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਪੀਸਣ ਲਈ ਇਕ ਬਾਲ ਮਿੱਲ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰੋ.
3. ਮੁੱਖ ਮਾਪਦੰਡ
• ਤਾਪਮਾਨ ਨਿਯੰਤਰਣ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ: ± 5 ° C
• ਕੂਲਿੰਗ ਰੇਟ: 2-5 ° C / ਮਿੰਟ (ਥਰਮਲ ਤਣਾਅ ਦੇ ਚੀਰ ਤੋਂ ਬਚਣ ਲਈ)
• ਕੱਚਾ ਮਾਲ ਕਣ ਦਾ ਆਕਾਰ: zn (100-200 ਜਾਲ), ਟੀਈ (200-300 ਜਾਲੀ)
____________________________________________________________
II. ਆਧੁਨਿਕ ਸੁਧਾਰੀ ਗਈ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ (Solvatothermal ਵਿਧੀਆਂ)
ਸੋਲਵਥਰਮੀਮਲ method ੰਗ ਨੈਨੋਸਕੇਲ ਜ਼ੈਨੇਟ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਦੀ ਮੁੱਖ ਧਾਰਾ ਤਕਨੀਕ ਹੈ, ਜੋ ਫਾਇਦੇ ਪੇਸ਼ ਕਰਦੇ ਹਨ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਨਿਯੰਤਰਣਸ਼ੀਲ ਕਣ ਦਾ ਆਕਾਰ ਅਤੇ ਘੱਟ energy ਰਜਾ ਦੀ ਖਪਤ.
1. ਕੱਚਾ ਮਾਲ ਅਤੇ ਸੌਲਵੈਂਟਸ
• ਪੂਰਵਜੋਰਸ: ਜ਼ਿੰਕ ਨਾਈਟ੍ਰੇਟ (ਜ਼ੈਨ (ਐਨਓਐਨ (ਨੂਮ) ₂) ਅਤੇ ਸੋਡੀਅਮ ਟੈਨਿ ur ਰੀਆ (ਨੋਇਵ) ਜਾਂ ਟੈਲਿ iremium ਡ ਪਾ powder ਡਰ (ਟੀ).
Agents ਏਜੰਟ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣਾ: ਹਾਈਡ੍ਰਾਜਿਨ ਹਾਈਡਰੇਟ (ਨੂਅਮ ਬੋਰੋਹਾਈਡ੍ਰਾਈਡ (ਨਾਬਾਦ).
• ਹੱਲ: ਈਥਲਾਇਡੇਨਾਇਮੀਨ (ਈਡੀਏ) ਜਾਂ ਡੀਯੋਨਾਈਜ਼ਡ ਪਾਣੀ (ਡੀ ਪਾਣੀ).
2. ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦਾ ਪ੍ਰਵਾਹ
• ਕਦਮ 1: ਪੂਰਵ-ਬੂਟਾ ਭੰਗ
ਓਕੇ ਅਤੇ ਨਾਸੋਅ ਨੂੰ ਹਿਲਾ ਕੇ ਘੋਲਨ ਵਿੱਚ ਘੋਲਨਹੀਣ ਰੂਪ ਵਿੱਚ zn (ਨੰ.) zn (ਨੰ.).
• ਕਦਮ 2: ਘਟਾਓ ਪ੍ਰਤੀਕਰਮ
o ਕਟੌਤੀ ਏਜੰਟ (ਜਿਵੇਂ, n₂h₄ · h₂o) ਅਤੇ ਉੱਚ ਦਬਾਅ ਵਾਲੇ ਆਟੋਕਲੇਵ ਵਿੱਚ ਮੋਹਰ ਪਾਓ.
o ਪ੍ਰਤੀਕਰਮ ਦੀਆਂ ਸ਼ਰਤਾਂ:
 ਤਾਪਮਾਨ: 180-220 ° C
 ਸਮਾਂ: 12-24 ਘੰਟੇ
 ਦਬਾਅ: ਸਵੈ-ਉਤਪੰਨ (3-5 MPA)
o ਪ੍ਰਤੀਕਰਮ ਸਮੀਕਰਨ: zn2 ++ teo32- + ਨੂੰ ਘਟਾਉਣਾ zn2 ++ teo@izning
• ਕਦਮ 3: ਇਲਾਜ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਦਾ ਇਲਾਜ
o ਉਤਪਾਦ ਨੂੰ ਅਲੱਗ ਕਰਨ ਲਈ ਸੈਂਟਰਿਫਿਨੀਜ, ਈਥੇਨੌਲ ਅਤੇ ਡੀ ਪਾਣੀ ਨਾਲ 35 ਵਾਰ ਧੋਵੋ.
ਹੇ ਵੈਕਿ um ਮ (60-80 ° C) 4-6 ਘੰਟਿਆਂ ਲਈ).
3. ਮੁੱਖ ਮਾਪਦੰਡ
• ਪੂਰਵਦਰਸ ਇਕਾਗਰਤਾ: 0.1-0.5 ਮੌਲ / ਐਲ
• PH ਨਿਯੰਤਰਣ: 9-11 (ਖਾਰੀ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਪ੍ਰਤੀਕਰਮ)
Colles ਕਣ ਦਾ ਆਕਾਰ ਨਿਯੰਤਰਣ: ਘੋਲਨ ਵਾਲੇ ਕਿਸਮ ਦੇ ਅਨੁਕੂਲ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਐਡਾ ਨੈਨੋਰੀਅਰਜ਼ ਝਾੜ; ਐਕਸੀਅਸ ਪੜਾਅ ਨੈਨੋ ਪਾਰਟਿਕਸ ਨੂੰ ਮਿਲਾਉਂਦਾ ਹੈ).
____________________________________________________________
III. ਹੋਰ ਤਕਨੀਕੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ
1. ਰਸਾਇਣਕ ਭਾਫ ਜਮ੍ਹਾ (ਸੀਵੀਡੀ)
• ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ: ਪਤਲੀ-ਫਿਲਮ ਦੀ ਤਿਆਰੀ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਸੋਲਰ ਸੈੱਲ).
• ਪੂਰਵਗਾਮੀ: ਡਾਈਥਾਈਲਜ਼ਿਨਕ (ਜ਼ੈਨ (ਸੀ.ਐੱਚ.ਏ.) ₂) ਅਤੇ ਡਾਈਥਾਈਲਟੇਲਿਅਮ (ਟੀ (ਸੀਐਚਐਚਈ) ₂).
• ਮਾਪਦੰਡ:
ਲੂਪੇਸ਼ਨ ਦਾ ਤਾਪਮਾਨ: 350-450 ° C
o ਕੈਰੀਅਰ ਗੈਸ: ਐਚ ₂ / ਏ ਆਰ ਮਿਸ਼ਰਣ (ਵਹਾਅ ਰੇਟ: 50-100 ਐਸਸੀਸੀਐਮ)
o ਦਬਾਅ: 10⁻²-10⁻³ ਟੋਰ
2. ਮਕੈਨੀਕਲ ਐਲੋਇੰਗ (ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ)
• ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ: ਘੋਲਨ-ਮੁਕਤ, ਘੱਟ ਤਾਪਮਾਨ ਦੇ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ.
• ਮਾਪਦੰਡ:
o ਬਾਲ-ਤੋਂ-ਪਾ powder ਡਰ ਦਾ ਅਨੁਪਾਤ: 10: 1
ਓ ਮਿਲਿੰਗ ਵਾਰ: 20-40 ਘੰਟੇ
o ਰੋਟੇਸ਼ਨ ਸਪੀਡ: 300-500 RPM
____________________________________________________________
IV. ਕੁਆਲਟੀ ਕੰਟਰੋਲ ਅਤੇ ਗੁਣ
1. ਸ਼ੁੱਧ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ: ਕ੍ਰਿਸਟਲ structure ਾਂਚੇ ਲਈ ਐਕਸ-ਰੇ ਡਿਫਾਫੈਕਸ਼ਨ (2θ25.3 °).
2. ਮੌਰਫੋਲੋਜੀ ਕੰਟਰੋਲ: ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਅਕਾਰ ਲਈ ਟ੍ਰਾਂਸਮਿਸ਼ਨ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨ ਮਾਈਕਰੋਸਕੋਪੀ (ਆਮ: 10-50 ਐਨ.ਐਮ.).
3. ਐਲੀਮੈਂਟਲ ਅਨੁਪਾਤ: zn ≈1: 1 ਦੀ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕਰਨ ਲਈ Energy ਰਜਾ-ਡਿਸਕੀ ਸਪੈਕਟ੍ਰੋਮੈਟਰੀ (ਆਈਸੀਪੀ-ਐਮਐਸ).
____________________________________________________________
ਵੀ. ਸੁਰੱਖਿਆ ਅਤੇ ਵਾਤਾਵਰਣ ਸੰਬੰਧੀ ਵਿਚਾਰ
1. ਬਰਬਾਦ ਗੈਸ ਦਾ ਇਲਾਜ: ਐਲਕਲੀਨ ਦੇ ਹੱਲ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਨਾਹ) ਦੇ ਨਾਲ h₂te ਜਜ਼ਬ ਕਰੋ.
2. ਸੌਲਵੈਂਟ ਰਿਕਵਰੀ: ਡਿਸਟਿਲੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਆਰਜੀਕਲ ਦੇ ਹੱਲ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਏ.ਡੀ.ਏ.) ਰੀਸਾਈਕਲ ਕਰੋ.
3. ਸੁਰੱਖਿਆ ਉਪਾਅ: ਗੈਸ ਮਾਸਕ (H₂ਟ ਪ੍ਰੋਟੈਕਸ਼ਨ ਲਈ) ਅਤੇ ਖੋਰ-ਰੋਧਕ ਦਸਤਾਨੇ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰੋ.
____________________________________________________________
Vi. ਤਕਨੀਕੀ ਰੁਝਾਨ
• ਗ੍ਰੀਨ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ: ਜੈਵਿਕ ਘੋਲਨ ਵਾਲੇ ਵਰਤੋਂ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣ ਲਈ ਰਿਵਿ ie ਜ਼ੀ-ਪੜਾਅ ਪ੍ਰਣਾਲੀਆਂ ਦਾ ਵਿਕਾਸ ਕਰੋ.
• ਡੋਪਿੰਗ ਸੋਧ: ਕਯੂ, ਏ.ਈ., ਆਦਿ ਨਾਲ ਡੋਪਿੰਗ ਕਰਕੇ ਚਾਲ-ਚਲਣ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣਾ.
• ਵੱਡੇ ਪੱਧਰ 'ਤੇ ਉਤਪਾਦਨ: ਵਿਕਾਸ-ਪ੍ਰਵਾਹ ਦੇ ਰਿਐਕਟਰਾਂ ਨੂੰ ਕਿੱਲੋ ਪੈਮਾਨੇ ਦੇ ਬੈਚ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਅਪਣਾਓ.