झोन वितळण्याच्या तंत्रज्ञानामध्ये नवीन घडामोडी

1. High उच्च-शुद्धता सामग्रीच्या तयारीमध्ये ब्रेकथ्रू ‌
Sil सिलिकॉन-आधारित सामग्री-: सिलिकॉन सिंगल क्रिस्टल्सच्या शुद्धतेने ‌13n (99.9999999999%) च्या मागे टाकले आहे-फ्लोटिंग झोन (एफझेड) पद्धतीचा वापर करून, उच्च-शक्ती सेमीकंडक्टर डिव्हाइस (ईजी, आयजीबीटी) आणि अ‍ॅडव्हान्स चिप्स ‌45 च्या कार्यक्षमतेत लक्षणीय वाढ केली आहे. हे तंत्रज्ञान क्रूसिबल-फ्री प्रक्रियेद्वारे ऑक्सिजन दूषितपणा कमी करते आणि झोन-मेल्टिंग-ग्रेड पॉलिसिलिकॉन 47 चे कार्यक्षम उत्पादन साध्य करण्यासाठी सिलेन सीव्हीडी आणि सुधारित सीमेंस पद्धती समाकलित करते.
Mermaniumication सामग्री ‌: ऑप्टिमाइझ्ड झोन मेल्टिंग शुध्दीकरणात सुधारित अशुद्धता वितरण गुणांकांसह जर्मेनियम शुद्धता ‌13n‌ पर्यंत वाढली आहे, जे इन्फ्रारेड ऑप्टिक्स आणि रेडिएशन डिटेक्टरमध्ये अनुप्रयोग सक्षम करते. तथापि, उच्च तापमानात पिघळलेल्या जर्मेनियम आणि उपकरणे सामग्रीमधील परस्परसंवाद एक गंभीर आव्हान आहे.
2. प्रक्रिया आणि उपकरणे मध्ये nenovations-
Nydynamic पॅरामीटर कंट्रोल ‌: वितळलेल्या झोन हालचालीची गती, तापमान ग्रेडियंट्स आणि संरक्षक गॅस वातावरणात समायोजित-रिअल-टाइम मॉनिटरींग आणि स्वयंचलित अभिप्राय प्रणालीसह तयार केलेले-जर्मेनियम/सिलिकॉन आणि उपकरणे 27 दरम्यानचे संवाद कमी करताना वर्धित प्रक्रिया स्थिरता आणि पुनरावृत्ती आहे.
Ol पॉलिसिलिकॉन प्रॉडक्शन ‌: झोन-मेल्टिंग-ग्रेड पॉलिसिलिकॉनसाठी कादंबरी स्केलेबल पद्धती पारंपारिक प्रक्रियेत ऑक्सिजन सामग्री नियंत्रण आव्हानांना संबोधित करतात, उर्जेचा वापर कमी करतात आणि उत्पन्न वाढवितात.
3. ectechnology एकत्रीकरण आणि क्रॉस-शिस्तीचा अनुप्रयोग-
-मील्ट क्रिस्टलायझेशन हायब्रीडायझेशन ‌: कमी-उर्जा वितळवून क्रिस्टलायझेशन तंत्र सेंद्रिय कंपाऊंड पृथक्करण आणि शुध्दीकरण अनुकूलित करण्यासाठी एकत्रित केले जात आहे, फार्मास्युटिकल इंटरमीडिएट्स आणि बारीक रसायनांमध्ये झोन वितळवून अनुप्रयोग वाढवित आहे.
Th थर्ड-जनरेशन सेमीकंडक्टर्स: झोन मेल्टिंग आता ‌ सिलिकॉन कार्बाइड (एसआयसी) ‌ आणि lag गॅलियम नायट्राइड (जीएएन) like, उच्च-फ्रिक्वेन्सी आणि उच्च-तापमान उपकरणांना आधार देणारी वाइड-बँडगॅप सामग्रीवर लागू केली जाते. उदाहरणार्थ, लिक्विड-फेज सिंगल-क्रिस्टल फर्नेस तंत्रज्ञान अचूक तापमान नियंत्रणाद्वारे स्थिर एसआयसी क्रिस्टल वाढ सक्षम करते.
4.
‌ फोटोव्होल्टिक्स ‌: झोन-मेल्टिंग-ग्रेड पॉलिसिलिकॉन उच्च-कार्यक्षमता सौर पेशींमध्ये वापरला जातो, फोटोइलेक्ट्रिक रूपांतरण कार्यक्षमता ‌ 26%‌ आणि नूतनीकरणयोग्य एनर्जी 4 मध्ये ड्रायव्हिंग प्रगती.
Ininfrard आणि डिटेक्टर टेक्नॉलॉजीजः अल्ट्रा-हाय-पुरिटी जर्मेनियम लष्करी, सुरक्षा आणि नागरी बाजारपेठेसाठी लघु-कार्यक्षमता इन्फ्रारेड इमेजिंग आणि नाईट-व्हिजन डिव्हाइस सक्षम करते.
.
Emp पिंप्युरिटी रिमूव्हल मर्यादा ‌: सद्य पद्धती प्रकाश-घटक अशुद्धी काढून टाकण्यासह संघर्ष करतात (उदा. बोरॉन, फॉस्फरस), नवीन डोपिंग प्रक्रिया किंवा डायनॅमिक मेल्ट झोन कंट्रोल टेक्नॉलॉजीजसाठी आवश्यक आहे.
‌ उपकरण टिकाऊपणा आणि उर्जा कार्यक्षमता- संशोधनात उर्जा वापर कमी करण्यासाठी आणि उपकरणांचे आयुष्य वाढविण्यासाठी highh-उच्च-तापमान-प्रतिरोधक, गंज-प्रतिरोधक क्रूसिबल मटेरियल आणि रेडिओफ्रिक्वेन्सी हीटिंग सिस्टम विकसित करण्यावर लक्ष केंद्रित केले आहे. व्हॅक्यूम आर्क रीमिल्टिंग (व्हीएआर) तंत्रज्ञान मेटल रिफाइनमेंट 47 साठी वचन देते.
झोन वितळण्याचे तंत्रज्ञान - उच्च शुद्धता, कमी खर्च आणि व्यापक लागूतेकडे प्रगती करीत आहे, सेमीकंडक्टर, नूतनीकरणयोग्य ऊर्जा आणि ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्समध्ये कोनशिला म्हणून त्याची भूमिका दृढ करते.